該設(shè)備針對(duì)工件局部電拋光，或整體電化學(xué)拋光后，因其它原因致使電拋光效果損壞，而需要局部再次電拋光處理的情況而研制。
解決了因部分拋光效果損壞，而需要整體重新拋光的過程，特別是對(duì)于一些大型設(shè)備而言，局部修復(fù)更方便，成本更低。
處理后光亮程度高，光潔度好，對(duì)于鏡面的處理，還能保持鏡面的高光效果。
電刷式電化學(xué)拋光與浸泡式電化學(xué)拋光的比較：
| 序 號(hào) | 比 較 內(nèi) 容 | 浸 泡 式 | 電 刷 式 | 備 注 |
| 1 | 電拋光效果 | 好 | 一般 | |
| 2 | 加工效率 | 高 | 低 | |
| 3 | 加工成本 | 低 | 高 | |
| 4 | 操作溫度 | 需加熱 | 常溫 | |
| 5 | 對(duì)人體危害 | 無 | 無 | |
| 6 | 使用藥水配方 | 環(huán)保型 | 環(huán)保型 | |
| 7 | 最低粗糙度 |
0.1～0.2μm |
≤0.1μm |
|
| 8 | 最好光亮度 | 較好 | 非常好 |
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